在半導(dǎo)體行業(yè)、光伏產(chǎn)業(yè)、平板顯示器行業(yè)、材料化工、科研實(shí)驗(yàn)室等領(lǐng)域適用。滿足廣泛的工藝需求：等離子體清洗、等離子體刻 蝕、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）、反應(yīng)濺射、射頻離子源等。
● 機(jī)柜安裝方式標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計(jì);
● 采用全數(shù)字控制，操控友好直觀；
● 進(jìn)線配置APFC，輸入側(cè)功率因數(shù)高，諧波低，
● 功放和直流控制模塊匹配穩(wěn)定；
● 輸出額定功率的駐波極低；
● 支持通用標(biāo)準(zhǔn)的相位調(diào)節(jié)；
● 支持可編程模擬量輸出
● 保護(hù)功能完善響應(yīng)極快
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